特許
J-GLOBAL ID:200903082673333070

水素透過膜および水素透過膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-229813
公開番号(公開出願番号):特開2007-044593
出願日: 2005年08月08日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】 水素透過膜における性能低下を抑制する。【解決手段】 水素を選択的に透過させる水素透過膜を製造する際には、まず、5族金属を含有する金属ベース層を用意する(ステップS100)。そして、金属ベース層の一方または双方の表面上に、所定の金属層を順次成膜して多層構造を形成する際に、パラジウム(Pd)を含有する金属被覆層を前記多層構造の表面に形成する(ステップS110、S120)。その後、金属被覆層において、結晶粒界を含む結晶構造における間隙を狭小化あるいは閉塞させて(ステップS130)、水素透過膜を完成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
水素を選択的に透過させる水素透過膜の製造方法であって、 (a)5族金属を含有する金属ベース層を用意する第1工程と、 (b)前記金属ベース層の一方または双方の表面上に、所定の金属層を順次成膜して多層構造を形成する際に、パラジウム(Pd)を含有する金属被覆層を前記多層構造の表面に形成する第2工程と、 (c)前記金属被覆層において、結晶粒界を含む結晶構造における間隙を狭小化あるいは閉塞させる第3工程と を備える水素透過膜の製造方法。
IPC (4件):
B01D 71/02 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/12 ,  C01B 3/56
FI (4件):
B01D71/02 500 ,  B01D67/00 500 ,  B01D69/12 ,  C01B3/56 Z
Fターム (18件):
4D006GA41 ,  4D006MA07 ,  4D006MA08 ,  4D006MA31 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA32 ,  4D006NA33 ,  4D006NA35 ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006NA62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB66 ,  4G140FA06 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (9件)
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