特許
J-GLOBAL ID:200903082973611161
レジスト用感光性樹脂組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-119911
公開番号(公開出願番号):特開平10-307399
出願日: 1997年05月09日
公開日(公表日): 1998年11月17日
要約:
【要約】【課題】 193nm付近の波長の光吸収が小さく、ArFエキシマレーザを用いて高い解像度のレジストパターンを得ることができ、しかも、反応性イオンエッチングにおける、耐ドライエッチング性にすぐれたレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 レジスト用感光性樹脂組成物に、特定のメタクリル酸エステルポリマを含み、この特定のメタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環(2個以上の芳香族環からなる縮合環を含む)を有するモノマを含んで構成されていることを特徴とする。
請求項(抜粋):
メタクリル酸エステルポリマを含むレジスト用感光性樹脂組成物において、前記メタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、式(1)で表される、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に、少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環を有するモノマを含んで構成してあることを特徴とするレジスト用感光性樹脂組成物。【化1】
IPC (4件):
G03F 7/039 601
, C08F220/12
, H01L 21/027
, C08F 20/34
FI (4件):
G03F 7/039 601
, C08F220/12
, C08F 20/34
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (18件)
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パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-320843
出願人:株式会社東芝
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ポジ型感光性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-252351
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-077595
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