特許
J-GLOBAL ID:200903082973611161
レジスト用感光性樹脂組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-119911
公開番号(公開出願番号):特開平10-307399
出願日: 1997年05月09日
公開日(公表日): 1998年11月17日
要約:
【要約】【課題】 193nm付近の波長の光吸収が小さく、ArFエキシマレーザを用いて高い解像度のレジストパターンを得ることができ、しかも、反応性イオンエッチングにおける、耐ドライエッチング性にすぐれたレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 レジスト用感光性樹脂組成物に、特定のメタクリル酸エステルポリマを含み、この特定のメタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環(2個以上の芳香族環からなる縮合環を含む)を有するモノマを含んで構成されていることを特徴とする。
請求項(抜粋):
メタクリル酸エステルポリマを含むレジスト用感光性樹脂組成物において、前記メタクリル酸エステルポリマは、モノマ成分の一つとして、式(1)で表される、メタクリル酸エステルモノマのエステル部分に、少なくとも1個の窒素原子を含む芳香族環を有するモノマを含んで構成してあることを特徴とするレジスト用感光性樹脂組成物。【化1】
IPC (4件):
G03F 7/039 601
, C08F220/12
, H01L 21/027
, C08F 20/34
FI (4件):
G03F 7/039 601
, C08F220/12
, C08F 20/34
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (26件)
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パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-320843
出願人:株式会社東芝
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ポジ型感光性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-252351
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-077595
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特開平4-077595
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125006
出願人:株式会社東芝
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-298995
出願人:和光純薬工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-270332
出願人:日本合成ゴム株式会社
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-312669
出願人:日本ゼオン株式会社
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パターン形成材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125678
出願人:信越化学工業株式会社
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アルコキシカルボニルノルボルニル(メタ)アクリレート及びその製造方法並びに感光性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-142803
出願人:出光石油化学株式会社
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特開平3-031845
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特開平3-031845
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ポジ型感光性レジスト組成物及びそれを用いた銅含有層のパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-031351
出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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特開昭62-039603
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特開昭62-039603
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特開昭58-024562
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特開昭58-024562
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特開昭54-123025
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特開昭54-123025
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特開昭63-156812
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特開昭63-156812
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特開昭61-009410
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特開昭61-009410
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反射防止コーティング組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-188850
出願人:シップレーカンパニーエルエルシー
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特開昭58-032667
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特開昭58-032667
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