特許
J-GLOBAL ID：200903083393181115
ファイバグレーティングの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-196674
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019334
出願日： 1998年06月26日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：
【要約】【課題】 強度が高く、信頼性の高いファイバグレーティングの形成方法を提供する。【解決手段】 光ファイバ心線3の被覆2を部分的に除去した後、被覆2を除去した領域の裸光ファイバ1の表面側をファイバグレーティング形成に支障がない紫外光透過性が得られる薄さの樹脂膜7で覆った後、樹脂膜7の表面側から、位相マスク9を介して紫外光(紫外コヒーレント光)を照射することにより、裸光ファイバ1のコア4の屈折率が光軸方向に周期的に変化するファイバグレーティングを形成する。樹脂膜7は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の、紫外光照射熱によって溶融しない耐熱性を有する有機材料により形成し、樹脂膜7の厚みは10μm以下で、紫外光が十分透過し、かつ、干渉光の集束性が低下しないようにする。
請求項（抜粋）：
裸光ファイバの外周側に被覆を設けて形成される光ファイバ心線の前記被覆を部分的に除去し、該被覆を除去した領域の前記裸光ファイバの表面側をファイバグレーティング形成に支障がない紫外光透過性が得られる薄さの樹脂膜で覆った後、該樹脂膜の表面側から紫外光を照射することにより裸光ファイバの光導波路の屈折率が光軸方向に周期的に変化するファイバグレーティングを形成することを特徴とするファイバグレーティングの形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
2H049AA33
, 2H049AA43
, 2H049AA59
, 2H049AA62
, 2H050AC82
, 2H050AC84
, 2H050AD00
