アミノ酸含有組成物でのメモリ又は硬質ディスク表面の研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-572638
公開番号（公開出願番号）：特表2003-529663
出願日： 2001年04月03日
公開日（公表日）： 2003年10月07日
要約：

【要約】メモリ又は硬質ディスク表面の平坦化又は研磨方法であって、この表面の少なくとも一部を(i)過硫酸塩と過酸化物からなる群より選択される酸化剤、アミノ酸及び水を含む研磨組成物、及び(ii)研磨材で研磨することを含む方法。

請求項（抜粋）：

メモリ又は硬質ディスク表面の平坦化又は研磨方法であって、前記表面の少なくとも一部を、(i)過硫酸塩と過酸化物からなる群より選択される酸化剤、アミノ酸及び水を含む組成物、並びに(ii)研磨材で研磨することを含む、メモリ又は硬質ディスク表面の平坦化又は研磨方法。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00

FI (3件)：

C09K 3/14 550 Z , C09K 3/14 550 D , B24B 37/00 H

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058AC04 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (13件)

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