特許
J-GLOBAL ID：200903083748122441

欠陥検査装置及び欠陥検査方法

発明者：
松井 繁

松井 繁 について

, 
伊東 昌昭

伊東 昌昭 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-148885
公開番号（公開出願番号）：特開2006-329630
出願日： 2005年05月23日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】 従来の解像度を改善して欠陥検出感度を向上させる方法では、微細欠陥と同様に高い空間周波数の構造体である微細パターンが最明部と成っている場合には、微細欠陥の濃淡コントラストが向上すると同時に微細パターンの濃淡コントラストも同時に向上するため、それ以上微細欠陥の検出感度を向上させることができないという問題があった。【解決手段】 本発明では、照明瞳面に複数の小開口に分割した開口絞りを置き、各小開口の遮光/透光を独立に制御することにより、微細欠陥の濃淡コントラストがより強調されるような入射角のみで被検査物体を照明する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被検査物体に光を照射する照明手段と、 該被検査物体で反射された光を結像させる結像手段と、 該結像手段で結像した像を撮像する撮像手段と、 前記撮像手段で取得された画像に基づき前記被検査物体の欠陥を検出する欠陥検出手段と、 遮光部のパターン形状を切り替え可能な機構を備え、前記照明手段からの光を通して前記被検査物体に照射する遮光手段と、 を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  H01L21/66 J
Fターム (49件)：
2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065CC25 ,  2F065FF49 ,  2F065FF51 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065HH00 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ00 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR08 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB07 ,  2G051BB11 ,  2G051BB15 ,  2G051BC01 ,  2G051BC06 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DJ04
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM