オキシムスルホン酸化合物、及びそれを用いた感光性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-089738
公開番号（公開出願番号）：特開2008-247780
出願日： 2007年03月29日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】保存安定性に優れた酸発生剤としてのオキシムスルホン酸エステル、及び該酸発生剤を用い、保存安定性に極めて優れる感光性組成物の提供。【解決手段】下記一般式(1)で表されることを特徴とするオキシムスルホン酸化合物及びそれを用いた感光性組成物である。ただし、上記一般式(1)中、R1は、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、複素芳香族基のいずれかを表し、Arは、置換基を有してもよい芳香族環又は複素芳香族環を表し、Xは、O、及びSのいずれかを表す。また、Aは、5及び6員環のいずれかの態様が好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されることを特徴とするオキシムスルホン酸化合物。

IPC (5件)：

C07D 307/92 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C07D 333/74

FI (5件)：

C07D307/92 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C07D333/74

Fターム (18件)：

2H025AA01 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BF15 , 2H025BF29 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4C037TA01

引用特許：

出願人引用 (8件)

オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-305834 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
新規な不飽和オキシム誘導体及び潜在的な酸としてのその用途
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-566246 出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
置換オキシム誘導体及びその潜在酸としての使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-501993 出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド

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