特許
J-GLOBAL ID:200903084240640230
排ガス浄化触媒
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-183474
公開番号(公開出願番号):特開2008-012382
出願日: 2006年07月03日
公開日(公表日): 2008年01月24日
要約:
【課題】排ガス浄化触媒の使用の間のペロブスカイト型複合酸化物の粒成長を抑制すると共に、最高浄化率及び/又は比較的高温における触媒活性に関しても優れた性能を有することができるペロブスカイト型複合酸化物系排ガス浄化触媒を提供する。【解決手段】細孔構造を有するシリカからなる多孔質シリカ担体、及びこの多孔質シリカ担体の細孔構造内に担持されているペロブスカイト型複合酸化物の粒子を有する排ガス浄化触媒とする。ここでこの多孔質シリカ担体では、その細孔分布において、一次粒子間の間隙に起因するピークが、3〜100nmの範囲にある。【選択図】図3
請求項(抜粋):
細孔構造を有するシリカからなる多孔質シリカ担体、及び前記多孔質シリカ担体の細孔構造内に担持されているペロブスカイト型複合酸化物の粒子を有し、且つ前記多孔質シリカ担体の細孔分布において、シリカの一次粒子間の間隙に起因するピークが、3〜100nmの範囲にある、排ガス浄化触媒。
IPC (3件):
B01J 35/10
, B01J 23/76
, B01D 53/94
FI (3件):
B01J35/10 301F
, B01J23/76 A
, B01D53/36 102D
Fターム (64件):
4D048AA06
, 4D048BA01Y
, 4D048BA02Y
, 4D048BA06X
, 4D048BA10X
, 4D048BA15Y
, 4D048BA18X
, 4D048BA19Y
, 4D048BA25Y
, 4D048BA28Y
, 4D048BA36X
, 4D048BA37Y
, 4D048BA38Y
, 4D048BA41Y
, 4D048BA42X
, 4D048BB01
, 4D048BB02
, 4D048BB17
, 4D048DA03
, 4D048DA13
, 4D048DA20
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC09A
, 4G169BC10A
, 4G169BC12A
, 4G169BC13A
, 4G169BC42A
, 4G169BC42B
, 4G169BC43A
, 4G169BC58A
, 4G169BC62A
, 4G169BC66A
, 4G169BC66B
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA13
, 4G169DA06
, 4G169EA19
, 4G169EC03Y
, 4G169EC04Y
, 4G169EC13X
, 4G169EC14X
, 4G169EC14Y
, 4G169EC15X
, 4G169EC16X
, 4G169EC23
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FA03
, 4G169FB05
, 4G169FB08
, 4G169FB14
, 4G169FB16
, 4G169FB78
引用特許: