パターン検査方法及びその装置並びに基板の処理方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-128954
公開番号（公開出願番号）：特開2001-304842
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】被検査対象物および画像検出系起因に起因して生じる、比較画像間の明るさばらつきを虚報としない、最適な画像処理条件を設定する。【解決手段】画像検出系に起因した2次電子画像のノイズ特性を求め、この特性をもとに被検査対象に応じて最適な画像処理パラメタを決定する。また、このノイズ特性と被検査対象物の画像を用いて比較処理を行うことにより、被検査対象物のプロセスばらつきを評価する。

請求項（抜粋）：

被検査対象物上に形成された第1のパターンに荷電粒子線を照射走査して得られる第1の荷電粒子線画像と、前記被検査対象物上に形成された前記第1のパターンと本来同一形状になるように形成された第2のパターンに荷電粒子線を照射走査して得られる第2の荷電粒子線画像とを比較して、前記被検査対象物上に形成されたパターンの欠陥または欠陥候補を検出する方法であって、前記荷電粒子線画像生成の過程において生じる画像信号量のばらつきを予測し、該予測した画像信号量のばらつきに基づいて許容範囲を算出し、前記第1の荷電粒子線画像と前記第2の荷電粒子線画像の間の差異を求め、該求めた差異が前記算出された許容範囲に入っているか否かに応じて欠陥または欠陥候補を判定することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (6件)：

G01B 15/00 , G01B 15/04 , G01N 23/225 , H01J 37/22 502 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01B 15/00 B , G01B 15/04 , G01N 23/225 , H01J 37/22 502 H , H01J 37/28 B , H01L 21/66 J

Fターム (54件)：

2F067AA45 , 2F067AA51 , 2F067BB02 , 2F067BB04 , 2F067BB27 , 2F067EE03 , 2F067FF01 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067NN02 , 2F067PP12 , 2F067QQ11 , 2F067RR12 , 2F067RR20 , 2F067RR24 , 2F067RR28 , 2F067RR30 , 2F067RR31 , 2F067RR41 , 2F067SS01 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001FA02 , 2G001FA08 , 2G001GA03 , 2G001GA06 , 2G001GA11 , 2G001JA07 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA11 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106CA51 , 4M106DB05 , 4M106DH01 , 4M106DH24 , 4M106DH33 , 4M106DJ07 , 4M106DJ13 , 4M106DJ14 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 4M106DJ38 , 5C033UU05 , 5C033UU06

引用特許：

審査官引用 (6件)

パターン検査装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-238812 出願人：株式会社日立製作所
欠陥検査方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-110383 出願人：株式会社日立製作所
パターンの欠陥検査方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-264275 出願人：株式会社日立製作所

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