特許
J-GLOBAL ID：200903084695261807
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法,マスクブランクスの製造方法,露光用マスクの製造方法,及び,半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-368248
公開番号（公開出願番号）：特開2006-176341
出願日： 2004年12月20日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
【課題】 局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する。【解決手段】 マスクブランクス用のガラス基板1の被測定面における凹凸形状を測定する凹凸形状測定工程と、測定結果にもとづいて、被測定面の平坦度を所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施されたガラス基板1表面を基板押圧手段67により研磨布61に押圧しつつ、ガラス基板1を回転させて研磨する際、ガラス基板1表面の所定の各点における研磨量が一定となるように、各点ごとに押圧力を設定し、押圧力にてガラス基板1を各点ごとに研磨布に押し当てて、ガラス基板1を研磨する研磨工程と、を有する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
マスクブランクス用のガラス基板の被測定面における凹凸形状を測定する凹凸形状測定工程と、
前記凹凸形状測定工程で得られた測定結果にもとづいて、前記凹凸形状を含む領域に対して表面加工を施すことにより、前記被測定面の平坦度を所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、
表面加工の施された前記ガラス基板表面を基板押圧手段により研磨布に押圧しつつ、前記ガラス基板を回転させて研磨する際、前記ガラス基板表面の所定の各点における研磨量が一定となるように、前記各点ごとに押圧力を設定し、該押圧力にて前記ガラス基板を研磨布に押し当てて、前記ガラス基板を研磨する研磨工程と、
を有するマスクブランクス用ガラス基板の製造方法。
IPC (4件)：
C03C 19/00
, B24B 37/00
, C03C 15/00
, G03F 1/14
C03C19/00 Z
, B24B37/00 B
, C03C15/00 A
, G03F1/14 A
2H095BA01
, 2H095BC26
, 3C058AA07
, 3C058AA12
, 3C058CA01
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 4G059AA08
, 4G059AC03
, 4G059BB01
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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