特許
J-GLOBAL ID：200903085216807384
熱処理方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
宮井 暎夫
, 伊藤 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-180694
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019593
出願日： 2003年06月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
【課題】加熱処理ユニットにおいては、フォトレジスト膜から発生する昇華物や揮発物が加熱処理ユニット内部に付着・堆積し、基板の加熱処理時に基板上に落下しレジストパターンの形成不良を生じるという問題を有している。この昇華物の付着を防止するため、熱処理ユニットの側壁および上面を加熱することが考えられるが、ユニット体積が増大し、また装置自身も複雑かつ大掛かりなものになってしまうという問題点がある。【解決手段】被処理基板100が配置される加熱処理空間113を囲繞可能に設けた囲繞部材101、102と、被処理基板100を加熱する熱板103と、吸気配管105と、排気配管106を備え、囲繞部材101、102に被処理基板100から発生する不純物の付着防止膜107、108を設けている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理物が配置される加熱処理空間を囲繞可能に設けた囲繞部材と、前記被処理物を加熱する加熱手段とを備え、前記囲繞部材に前記被処理物から発生する不純物の付着防止膜を設けたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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