プラズマ放電による薄膜形成装置と同装置用シャワー電極の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-035572
公開番号（公開出願番号）：特開2001-226776
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：

【要約】【課題】連続成膜時間を極力長くできる長寿命のシャワー電極や防着板を備えた生産性の高いプラズマ放電による薄膜形成装置と同装置用シャワー電極の製造方法を提供する。【解決手段】成膜室内の薄膜形成用基板の一側に接地電極を配設し、他側に電極本体と,ガス導入口と,ガス流通孔を有するシャワー電極とを備えた高周波電極を配設してなり、プラズマ放電によって前記基板主面に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記シャワー電極5のプラズマ放電側の表面を、第一の大きな凹凸面上に第二の小さな凹凸面を重畳させて,大小二つの平均表面粗さを有するものとする。

請求項（抜粋）：

成膜室内の薄膜形成用基板の一側に接地電極を配設し、他側に電極本体と,ガス導入口と,ガス流通孔を有するシャワー電極とを備えた高周波電極を配設してなり、プラズマ放電によって前記基板主面に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記シャワー電極のプラズマ放電側の表面を、第一の大きな凹凸面上に第二の小さな凹凸面を重畳させて,大小二つの平均表面粗さを有するものとすることを特徴とするプラズマ放電による薄膜形成装置。

IPC (4件)：

C23C 16/54 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , H01L 31/04

FI (4件)：

C23C 16/54 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , H01L 31/04 T

Fターム (20件)：

4K030EA05 , 4K030FA03 , 4K030KA12 , 4K030KA17 , 4K030KA46 , 5F045AA08 , 5F045AC01 , 5F045AD06 , 5F045AE19 , 5F045BB08 , 5F045BB10 , 5F045DP22 , 5F045DQ15 , 5F045EH05 , 5F045EH08 , 5F051BA11 , 5F051BA14 , 5F051CA15 , 5F051CA22 , 5F051CA23

引用特許：

審査官引用 (11件)

プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-041337 出願人：国際電気株式会社
プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-335723 出願人：松下電器産業株式会社
プラズマCVD装置用電極板及びその表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-348060 出願人：株式会社東芝

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