特許
J-GLOBAL ID：200903085765853380

光学装置および光学装置の汚染防止方法

発明者：
塚本 雅美

塚本 雅美 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113505
公開番号（公開出願番号）：特開2001-297972
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】周辺雰囲気と隔てる光学素子の表面付近に、清浄なガスを効率よく供給することで該光学素子の表面を清浄に保ち、付着物の堆積を抑えることができ、そのガスの流れによる結像性能の結像位置調整等への影響を可及的に低減することが可能で、きわめて少ないガス量で有効に該光学素子の表面の汚染を防止することのできる光学装置および光学装置の汚染防止方法を提供する。【解決手段】光学装置において、光学素子の表面に直接ガスを吹き付け、または光学素子の表面へガスを層流にして流すことによって、光学素子の表面に局所的にガスを供給する手段を設けて、光学素子の汚染を防止するように構成する。
請求項（抜粋）：
光学装置において、光学素子の表面に直接ガスを吹き付け、または光学素子の表面へガスを層流にして流すことによって、光学素子の表面に局所的にガスを供給する手段を設けたことを特徴とする光学装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521
FI (5件)：
G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F
Fターム (11件)：
2H097AA03 ,  2H097BA02 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046CB20 ,  5F046CB26 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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