特許
J-GLOBAL ID：200903085960907117
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-103143
公開番号（公開出願番号）：特開2008-270801
出願日： 2008年04月11日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供することである。【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、エアフローおよび/または圧力波のソースとエアフローおよび/または圧力波に敏感な要素との間に配置されたシールドデバイスとを含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
エアフローおよび/または圧力波のソースと、前記エアフローおよび/または圧力波に対して敏感な要素との間に配置されたシールドデバイスと、
を含む、リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516F
, G03F7/20 521
5F046AA22
, 5F046BA03
, 5F046CB26
, 5F046DA27
, 5F046DB03
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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