照明装置および露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-149700
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340843
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】機械的強度が高く、しかもX線に対する透過率が高いフィルターを備えた照明装置と、該照明装置を照明光学系として用いた露光装置を提供すること【解決手段】光源1から出射されたX線31を被照明物体5に照射する照明装置であり、少なくとも、前記光源1から出射されたX線31を集光する集光光学系2と、該集光光学系2の集光位置6に、或いは集光位置6の近傍に配置されたフィルター3と、該フィルター3を透過したX線33を前記被照明物体5に照射する照射光学系4と、を備えたことを特徴とする照明装置

請求項（抜粋）：

光源から出射されたX線を被照明物体に照射する照明装置であり、少なくとも、前記光源から出射されたX線を集光する集光光学系と、該集光光学系の集光位置に、或いは集光位置の近傍に配置されたフィルターと、該フィルターを透過したX線を前記被照明物体に照射する照射光学系と、を備えたことを特徴とする照明装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02B 5/22 , G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A , G02B 5/22 , G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (8件)

X線マスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-140981 出願人：株式会社ニコン
特開平1-102400
微細パターン転写方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-240806 出願人：株式会社日立製作所

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