特許
J-GLOBAL ID:200903086596097895

光照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長澤 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-246490
公開番号(公開出願番号):特開2006-066585
出願日: 2004年08月26日
公開日(公表日): 2006年03月09日
要約:
【課題】 光照射装置において、マスクが大きくなっても、マスク保持手段に吸着保持させる時間が長くならないようにすること。【解決手段】 ワークステージ1に、エアー供給源10に管路8を介して接続された開口1aを形成し、管路8中に切換えバルブ9を設ける。ワークステージ1にマスク3を載置し、ワークステージ1を上昇させてマスク保持手段4にマスクが当接したとき、上記切換えバルブ9を切換え、開口1aをエア供給源10に連通させてエアーをマスク3に吹き付け、マスク3をマスク保持手段4に押し付ける。これにより、マスク3を押さえつける力が大きくなり、マスク3とマスク保持手段4の間の残存エアーを追い出す力が働き、マスク3をマスク保持手段4に吸着保持させるための時間を短くすることができる。なお、上記のようにエアーを吹き付ける代わりに、マスク周辺部を減圧雰囲気にしてもよい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ワークステージにマスクを載置し、ワークステージの上昇によりマスク保持手段にマスクを当接させて真空吸着させるマスク取付機構を備えた光照射装置であって、 前記ワークステージに、エアー供給源に管路を介して接続された開口が形成され、 上記管路中に、ワークステージ上のマスクがマスク保持手段に当接時に上記開口をエア供給源に連通させるバルブを備え、 ワークステージからエアーをマスクに吹き付けることにより、マスクをマスク保持手段に押し付ける ことを特徴とする光照射装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2件):
H01L21/30 503D ,  G03F9/00 H
Fターム (4件):
5F046BA01 ,  5F046BA02 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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