特許
J-GLOBAL ID:200903086801761108

ガス反応を実行するためのプラズマ反応器およびプラズマ支援ガス反応の方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 葛和 清司
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-522552
公開番号(公開出願番号):特表2006-501980
出願日: 2003年07月22日
公開日(公表日): 2006年01月19日
要約:
本発明は、ガス反応を実行するための装置であって、特に円筒形プラズマ室を有する、ガスの通過流によるプラズマ反応器を含む装置において、ガスの流れを形成するための流れ形成要素を、プラズマ反応器の以前および/または内部および/または以後に配置して、プラズマ室内部でガス流を形成させ、それによってガス流内に少なくとも1つの、特に中央の流れ低下区域を形成させる装置に関する。本発明は、さらにガス反応を実行する方法に関する。
請求項(抜粋):
ガス反応を実行するための装置であって、プラズマ室、特に円筒状プラズマ室を有する、ガスの通過流を用いるプラズマ反応器を含む前記装置において、前記プラズマ室内にガス流を形成し、それによって前記ガス流内に少なくとも1つの、特に中央の、流れの低下した区域を形成するために、ガスの流れを形成するための流れ形成要素が、プラズマ反応器の先行および/または内部および/または後続に配置されていることを特徴とする前記装置。
IPC (1件):
B01J 19/08
FI (1件):
B01J19/08 E
Fターム (16件):
4G075AA03 ,  4G075AA45 ,  4G075AA65 ,  4G075BA01 ,  4G075BD01 ,  4G075BD09 ,  4G075CA03 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA01 ,  4G075EB21 ,  4G075EC09 ,  4G075ED02
引用特許:
審査官引用 (8件)
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