特許
J-GLOBAL ID:200903086828211460

基板乾燥装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木内 光春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-092682
公開番号(公開出願番号):特開2000-283652
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月13日
要約:
【要約】【課題】 乾燥室内の清浄度を保ちつつ、基板上の液体を完全に除去することができる基板乾燥装置を提供する。【解決手段】 内部が連続した排気室10と液切り室20に、基板搬送用の複数の搬送ローラ30を配設する。搬送ローラ30の駆動部を駆動部カバー33で覆う。排気室10の底面の集液部11に排気管12を接続する。排気室10の底面に駆動部排気管13、背面に駆動部排気管14を接続し、駆動部周囲の駆動部カバー33によって覆われた空間に連通させる。排気管12、駆動部排気管13,14を、排気室10の背後の垂直管15に接続する。垂直管15の上端にオートダンパ16を設ける。液切り室20の天井を、排気室10よりも高く形成する。排気室10の上部にファンユニット22を設け、基板の搬送経路の上下にエアナイフ21を設ける。
請求項(抜粋):
乾燥室内に、基板の搬送手段と、基板上の液体を空気流によって除去するエアナイフとを備えた基板乾燥装置において、前記乾燥室には、前記乾燥室内部に清浄空気を送風するファンユニットが設けられ、前記乾燥室には、基板から除去された液体によって生じる水滴及びミストを排出する排出手段が接続され、前記乾燥室には、室内の気圧調整用のダンパが設けられ、前記乾燥室内の気圧が外部の気圧よりも陽圧に維持されるように、前記エアナイフの作動・停止に応じて、前記ダンパの開放度を制御する制御手段を有することを特徴とする基板乾燥装置。
Fターム (23件):
3L113AA01 ,  3L113AB10 ,  3L113AC20 ,  3L113AC31 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113AC50 ,  3L113AC52 ,  3L113AC57 ,  3L113AC63 ,  3L113AC67 ,  3L113AC72 ,  3L113AC73 ,  3L113AC75 ,  3L113AC76 ,  3L113AC83 ,  3L113BA34 ,  3L113CA10 ,  3L113DA04 ,  3L113DA09 ,  3L113DA24
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
  • 基板乾燥装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-151799   出願人:日本電気株式会社
  • スピン洗浄乾燥装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-304350   出願人:島田理化工業株式会社
  • 基板乾燥装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-250475   出願人:大日本スクリーン製造株式会社

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