特許
J-GLOBAL ID:200903087025290163
収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-145945
公開番号(公開出願番号):特開2004-087460
出願日: 2003年05月23日
公開日(公表日): 2004年03月18日
要約:
【課題】安定かつ最適な収差補正を実現し、荷電粒子ビームの最小プローブ径を得ることができる収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置を実現する。【解決手段】4段の静電型4極子1、2、3、4と4段の静電型4極子の中央の2段の静電型4極子2、3の電位分布と相似な磁位分布を重畳させる2段の磁場型4極子5、6と4段の静電型4極子1、2、3、4の電位分布に8極子電位を重畳させる4段の静電型8極子11、12、13、14から成る収差補正装置Cの最終段の多極子の主面と焦点距離faのトランスファーレンズ27aの主面との距離L1をfa程度とし、トランスファーレンズ27aの主面と焦点距離fbのトランスファーレンズ27bの主面との距離L2をfa+fb程度とし、トランスファーレンズ27bの主面と対物レンズ7の前方焦点距離FFPとの距離L3をfb程度となるように配置する。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームをフォーカスして試料に照射する荷電粒子ビーム装置において、
(1)荷電粒子ビーム装置の光学系内部に配置され、4段の静電型4極子と該4段の静電型4極子の中央の2段の静電型4極子の電位分布と相似な磁位分布を重畳させる2段の磁場型4極子とを有する収差補正装置と、
(2)4段の静電型4極子のそれぞれに電圧を供給する電源と2段の磁場型4極子のそれぞれに電流を供給する電源と、
(3)収差補正装置の下流に配置され、試料に照射される荷電粒子ビームをフォーカスするための対物レンズと、
(4)対物レンズの電源と、
(5)収差補正装置と対物レンズとの間に配置され、収差補正装置によって形成される像面を対物レンズの物面の位置に伝達するための少なくとも1段のトランスファーレンズより成るトランスファーレンズ系と、
(6)トランスファーレンズ電源と、
(7)荷電粒子ビームに所定のエネルギーを与える加速電圧や対物レンズと試料との間の距離である作動距離のうちの少なくとも1つを変更する操作部と、
(8)操作部の操作または設定に基づいて前記4段の静電型4極子のそれぞれに電圧を供給する電源と2段の磁場型4極子のそれぞれに電流を供給する電源と対物レンズの電源とトランスファーレンズ電源とを制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (2件):
引用特許:
引用文献: