特許
J-GLOBAL ID：200903087766908067

反射型マスクブランクス及びその製造方法、反射型マスク、並びに反射多層膜付き基板及びその製造方法

発明者：
笑喜 勉

笑喜 勉 について

, 
木下 健

木下 健 について

, 
細谷 守男

細谷 守男 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-276467
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037798
出願日： 2003年07月18日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】反射率の低下を招かずに、酸化防止効果が得られる反射多層膜の保護膜材料を提供する。【解決手段】基板1と、基板1上に形成された露光光を反射する反射多層膜2と、該反射多層膜2上に形成された保護膜と、該保護膜上に形成された露光光を吸収する吸収体膜4を有する反射型マスクブランクス10であって、上記保護膜2は、MoとSiを主成分とする材料からなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に形成された露光光を反射する反射多層膜と、該反射多層膜上に形成された該反射多層膜の酸化を防止する保護膜と、該保護膜上に形成された露光光を吸収する吸収体膜とを有する反射型マスクブランクスであって、 前記保護膜は、Mo(モリブデン)とSi(珪素)を主成分とする材料からなることを特徴とする反射型マスクブランクス。
IPC (2件)：
G03F1/16 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F1/16 A ,  H01L21/30 531M ,  H01L21/30 517
Fターム (5件)：
2H095BA10 ,  2H095BB25 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  5F046GD10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM