特許
J-GLOBAL ID:200903090149527227
石英ガラス部品及びセラミック部品並びにそれらの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-305754
公開番号(公開出願番号):特開2003-212598
出願日: 2002年10月21日
公開日(公表日): 2003年07月30日
要約:
【要約】【課題】半導体等のプレクリーニング装置や成膜装置に用いられる石英ガラス部品およびセラミック部品では、その使用中に部品自体の剥離、部品表面に付着する膜状物質の剥離、及びプラズマによる部品表面の腐食による製品の汚染、並びに部品の短寿命化及び頻繁な部品交換による生産性の低下等の問題があった。【解決の手段】半導体等の成膜装置及びプレクリーニング装置に用いる石英ガラス及びセラミックの部品において、表面がセラミック溶射膜で被覆され、なおかつ表面粗さRaが5〜20μmに制御されたものは膜状物質の付着性が高く、表面粗さRaが1〜5μmに制御されたものでは耐プラズマ性が高く、さらにセラミック溶射膜を形成する基材の表面に溶射膜に対するアンカー効果の大きい溝形状を形成したものでは基材に対するセラミック溶射膜自体の剥離がなく、耐久性が高い。
請求項(抜粋):
石英ガラス基材上に表面粗さRaが5〜20μmで相対密度が70〜97%であるセラミック溶射膜が形成されていることを特徴とする石英ガラス部品。
IPC (6件):
C03C 17/25
, C03C 19/00
, C04B 41/87
, C04B 41/91
, C23C 4/02
, C23C 4/10
FI (7件):
C03C 17/25 A
, C03C 19/00 A
, C04B 41/87 J
, C04B 41/91 B
, C04B 41/91 D
, C23C 4/02
, C23C 4/10
Fターム (22件):
4G059AA08
, 4G059AA20
, 4G059AC01
, 4G059EA01
, 4G059EA07
, 4G059EB05
, 4K031AA01
, 4K031AA08
, 4K031AB02
, 4K031AB07
, 4K031BA01
, 4K031BA02
, 4K031BA04
, 4K031CB01
, 4K031CB18
, 4K031CB41
, 4K031CB42
, 4K031CB43
, 4K031DA04
, 4K031EA01
, 4K031EA12
, 4K031FA01
引用特許:
出願人引用 (7件)
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米国特許第6319842号
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粗い表面を有するシリカガラスおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-259636
出願人:信越石英株式会社
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特開昭60-120515号公報
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特開平4-268065号公報
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特開昭63-13333号公報
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-169209
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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処理装置およびそれに用いられる耐食性部材
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-373973
出願人:東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (5件)
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