特許
J-GLOBAL ID：200903091390699051
乾燥ゲルの製造方法およびそれを用いた断熱材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-005591
公開番号（公開出願番号）：特開2003-206125
出願日： 2002年01月15日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 ゲル形成後、水を除去した後に、疎水化剤としてシラザン化合物を用いて疎水化する場合、疎水化時に通常の水溶性溶媒を用いたのでは、密度の低い乾燥ゲルを得ることが容易ではなかった。また、高沸点の水溶性溶媒を用いれば密度の低い乾燥ゲルが得られるが、ジメチルフォルムアミド等使用可能な溶媒が限られており、溶媒のコストも高くなるという課題があった。【解決手段】 テトラメトキシシランをゲル原料として湿潤ゲルを形成し、この湿潤ゲル内の水を含む溶媒をメタノールを用いた溶媒置換により除いた後、疎水化剤としてビス(ジメチルアミノ)ジメチルシランを用いてメタノール中で疎水化処理を行い、メタノールからヘキサンに溶媒置換を行った後、乾燥して乾燥ゲルを作製した。このように、メタノールを用いて疎水化を行うことにより、他の低沸点の水溶性溶媒を用いた場合に比較して、顕著に低密度の乾燥ゲルが得られることが可能となった。
請求項（抜粋）：
少なくとも水を含む溶媒とゲル原料とを混合することで湿潤ゲルを形成させてなるゲル化工程と、前記湿潤ゲル内の水を除く除水工程と、前記湿潤ゲルの表面を、疎水化剤としてシラザン化合物を用いて疎水化処理を行う疎水化工程と、前記の疎水化処理された湿潤ゲル内に残存した溶媒を、前記溶媒の臨界点未満の条件で除いて乾燥ゲルを得る乾燥工程とを含み、前記疎水化工程において、前記疎水化処理時の溶媒として、少なくともメタノールを含む溶媒を用いるか、あるいは非水溶性溶媒を含む溶媒中で80°C以上の条件で疎水化を行うことを特徴とする乾燥ゲルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4G072AA28
, 4G072CC10
, 4G072GG03
, 4G072HH19
, 4G072KK13
, 4G072LL11
, 4G072MM31
, 4G072QQ07
, 4G072UU30
, 4J035AA03
, 4J035AB02
, 4J035AB03
