特許
J-GLOBAL ID：200903091577963623
リソグラフィ装置と方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099300
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058441
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：
【要約】【課題】 固定された照光モードのみを有するか、モードの範囲に限度が在るとか、所望モードの選択あるいは混合が困難な従来技術による照射システムの柔軟性の欠如を少なくとも部分的に排除する。【解決手段】 リソグラフィック露出装置の照光システムが調整可能アキシコンと、可変のズーム要素と、多極照射発生要素とを含む。光学要素を制御することにより、照光モードを従来のモードと、環状モードと、多極モードとの間で連続的に変動できるようにする。
請求項（抜粋）：
投影照射ビームを供給する照射システムと、マスクを保持するマスクホルダを備え、第1の位置決め手段に接続されている第1の対象物テーブルと、基板を保持する基板ホルダを備え、第2の位置決め手段に接続されている第2の対象物テーブルと、マスクの照射される部分を基板の目標部分に形像する投影システムとを含み、前記照射システムが調整可能のアクシコン(axicon)と、可変ズーム要素とを含む照光システムを含んでいるリソグラフィ装置において、多極照光モードを発生させて多極照光モードの少なくとも1個の空間パラメータを連続して変更可能にする調整要素を更に含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 G
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 D
