特許
J-GLOBAL ID:200903091943709557
面位置検出装置、露光装置及びデバイスの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 芳洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-011634
公開番号(公開出願番号):特開2007-192685
出願日: 2006年01月19日
公開日(公表日): 2007年08月02日
要約:
【課題】 被検面の面位置を正確に検出することができる面位置検出装置を提供する。【解決手段】 光源から供給される検出光を被検面W上に斜め方向から送光して、該被検面W上に所定のパターンを投射する送光光学系SLと、被検面Wにより反射された検出光を集光して受光スリット上に所定のパターンの空間像を形成する受光光学系RLと、受光スリットと所定の空間像とを相対的に走査させる走査手段21と、受光スリットを介した検出光を光電変換する光電変換手段38と、走査手段21による受光スリットと所定の空間像との相対的な走査中の光電変換手段38からの光電変換出力に基づいて、所定の空間像の光強度分布を求める光強度分布算出手段とを備え、所定の空間像の光強度分布に基づいて、被検面Wの少なくとも一点の位置を検出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光源から供給される検出光を被検面上に斜め方向から送光して、該被検面上に所定のパターンを投射する送光光学系と、
前記被検面により反射された前記検出光を集光して受光スリット上に前記所定のパターンの空間像を形成する受光光学系と、
前記受光スリットと前記所定の空間像とを相対的に走査させる走査手段と、
前記受光スリットを介した前記検出光を光電変換する光電変換手段と、
前記走査手段による前記受光スリットと前記所定の空間像との相対的な走査中の前記光電変換手段からの光電変換出力に基づいて、前記所定の空間像の光強度分布を求める光強度分布算出手段と、
を備え、
前記所定の空間像の光強度分布に基づいて、前記被検面の少なくとも一点の位置を検出することを特徴とする面位置検出装置。
IPC (3件):
G01B 11/00
, H01L 21/027
, G03F 7/20
FI (4件):
G01B11/00 A
, H01L21/30 526B
, H01L21/30 516A
, G03F7/20 521
Fターム (30件):
2F065AA00
, 2F065AA02
, 2F065AA06
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065FF42
, 2F065FF55
, 2F065HH06
, 2F065HH12
, 2F065JJ05
, 2F065JJ17
, 2F065JJ24
, 2F065LL02
, 2F065LL13
, 2F065LL28
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL67
, 2F065MM16
, 2F065PP12
, 2F065QQ42
, 5F046BA04
, 5F046CC01
, 5F046CC05
, 5F046DA01
, 5F046DA05
, 5F046DA14
, 5F046DB01
, 5F046DB05
, 5F046DC07
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
面位置検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-311758
出願人:株式会社ニコン
審査官引用 (6件)
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