特許
J-GLOBAL ID：200903092266784322

無機材料膜、無機材料膜構造物、およびその製造方法並びに転写フィルム

発明者：
高木 良博

高木 良博 について


出願人/特許権者：
富士フイルムアーチ株式会社

富士フイルムアーチ株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-146131
公開番号（公開出願番号）：特開2005-008514
出願日： 2004年05月17日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：
【課題】低誘電率であって、しかも高精度で微細な構造を有した無機材料膜、無機材料膜構造物、およびその製造方法並びにその製造が容易で、かつ基板に良好に密着し、また感光性レジストとの密着も良好な組成物を有する転写フィルムを提供すること。【解決手段】少なくとも無機粉末を含む非感光性組成物を焼成して得られる多孔性の無機材料膜であって、該無機材料膜は、空隙面積率が5〜75%で、空隙サイズが0.1〜30μmである無機材料膜。前記非感光性組成物を基板上に設け、該非感光性組成物上に感光性組成物を設け、露光、現像処理した後、非感光性組成物にパターンを形成し、次いで焼成する無機材料膜構造物の製造方法。可撓性仮支持体上に上記非感光性組成物からなる塗布層を有する転写フィルム。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
少なくとも無機粉末を含む非感光性組成物を焼成して得られる多孔性の無機材料膜であって、該無機材料膜は、空隙面積率が5〜75%で、空隙サイズが0.1〜30μmであることを特徴とする無機材料膜。
IPC (5件)：
C04B38/00 ,  B32B5/18 ,  B32B9/00 ,  H01J9/02 ,  H01J11/02
FI (5件)：
C04B38/00 303Z ,  B32B5/18 ,  B32B9/00 A ,  H01J9/02 F ,  H01J11/02 B
Fターム (29件)：
4F100AA00B ,  4F100AA17 ,  4F100AJ06 ,  4F100AR00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100CA04 ,  4F100CC00B ,  4F100DE01B ,  4F100EH46B ,  4F100GB41 ,  4F100JK17A ,  4G019FA13 ,  5C027AA05 ,  5C027AA09 ,  5C040FA01 ,  5C040GD07 ,  5C040GD09 ,  5C040GF18 ,  5C040GF19 ,  5C040JA09 ,  5C040JA19 ,  5C040KA08 ,  5C040KA09 ,  5C040KA14 ,  5C040KA17 ,  5C040KB09 ,  5C040KB28 ,  5C040MA24
引用特許：
出願人引用 (15件)
全件表示
審査官引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM