特許
J-GLOBAL ID：200903092523081222

画素形成方法及びカラーフィルタ

発明者：
上島 美佐代

上島 美佐代 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-189586
公開番号（公開出願番号）：特開2007-010845
出願日： 2005年06月29日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】塗膜が、使用した塗布装置に固有な塗膜の膜厚分布の傾向を有しても、その膜厚分布の傾向が是正され基板の全面にわたり均一な膜厚の画素を形成する画素形成方法、及び該画素形成方法を用いて製造したカラーフィルタを提供する。【解決手段】基板1上にネガ型フォトレジストの塗膜2を設け、フォトマスクを介した露光L、及び現像処理により画素を形成する画素形成方法において、フォトマスクPM2が、用いた塗布装置に固有な塗膜の膜厚分布の内、膜厚の厚い部分に対応したフォトマスク上の部分にハーフートーン4部を有すること。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板上に塗布装置を用いてネガ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した露光、及び現像処理により画素を形成する画素形成方法において、該フォトマスクが、用いた塗布装置に固有な塗膜の膜厚分布の内、膜厚の厚い部分に対応したフォトマスク上の部分にハーフートーン部を有することを特徴とする画素形成方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  G02B 5/20 ,  G02F 1/133
FI (3件)：
G03F1/08 D ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505
Fターム (18件)：
2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB28 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA04Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FD04 ,  2H091FD24 ,  2H091LA16 ,  2H091LA30 ,  2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  2H095BC01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (10件)
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