スラリー供給方法およびその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：安倍逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-024839
公開番号（公開出願番号）：特開2002-233954
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：

【要約】【課題】スラリータンクの小型化、温度調節手段の小型化、温度調節手段の低熱容量化を図る。スラリー補給時、ウェーハ加工を継続可能とする。【解決手段】スラリータンクと温度調節手段との間でスラリーを循環させてスラリー温度を調節し、スラリーをウェーハ研磨装置に供給する。この装置へのスラリー供給量を検出し、検出量と同量のスラリーをタンクに補給する。スラリータンク、温度調節手段の小型化、温度調節手段の低熱容量化が図れる。スラリー補給中でも、ウェーハ加工を継続できる。また、スラリー供給量と戻り量との差量を補給できる。スラリーの回収、再利用も可能とする。

請求項（抜粋）：

遊離砥粒を含むスラリーを貯液するスラリータンクと、このスラリータンクから排出されたスラリーの温度を調節する温度調節手段との間でスラリーを循環しながら、スラリーの温度を調節する工程と、温度調節後のスラリーを、スラリーを使用する設備に供給する工程とを備えたスラリー供給方法において、上記スラリーを使用する設備に供給される温度調節後のスラリーの量を検出し、この検出された量と略同じ量のスラリーを、上記スラリータンクに随時補給するスラリー供給方法。

IPC (4件)：

B24B 57/02 , B24B 37/00 , H01L 21/304 622 , H01L 21/304

FI (4件)：

B24B 57/02 , B24B 37/00 J , H01L 21/304 622 E , H01L 21/304 622 R

Fターム (15件)：

3C047FF08 , 3C047GG15 , 3C047GG19 , 3C058AA07 , 3C058AC01 , 3C058AC02 , 3C058AC04 , 3C058BA02 , 3C058BA08 , 3C058BB09 , 3C058CB03 , 3C058CB05 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (8件)

ワイヤソーにおけるスラリー供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-184982 出願人：株式会社日平トヤマ
ワイヤソー
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-019569 出願人：株式会社東京精密, 株式会社スーパーシリコン研究所
特開昭62-024961

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