特許
J-GLOBAL ID:200903092588357764

反応性基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 市川 恒彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-347362
公開番号(公開出願番号):特開2007-153749
出願日: 2005年11月30日
公開日(公表日): 2007年06月21日
要約:
【課題】樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性を損ないにくいホスファゼン化合物の提供。【解決手段】下記の式で表されるホスファゼン化合物。nは3〜15の整数を示す。Aの一例は、下記の式で示される置換フェニルオキシ基である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の式(1)で表される反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
IPC (6件):
C07F 9/658 ,  C08L 101/00 ,  C08K 5/539 ,  C07F 9/659 ,  C09K 21/12 ,  C09K 21/14
FI (6件):
C07F9/6581 ,  C08L101/00 ,  C08K5/5399 ,  C07F9/6593 ,  C09K21/12 ,  C09K21/14
Fターム (14件):
4H028AA40 ,  4H028AA48 ,  4H028BA06 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB80 ,  4J002AA001 ,  4J002CD001 ,  4J002CH071 ,  4J002CM041 ,  4J002EW156 ,  4J002FD136 ,  4J002GG00 ,  4J002GQ00
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (3件)
引用文献:
審査官引用 (2件)

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