特許
J-GLOBAL ID：200903093001828294

緻密質シリカ系水素分離膜および水素製造方法

発明者：
吉野 泰

吉野 泰 について

, 
バラゴパル エヌ.ナイル

バラゴパル エヌ.ナイル について


出願人/特許権者：
株式会社ノリタケカンパニーリミテド

株式会社ノリタケカンパニーリミテド について


代理人 (1件)： 池田 治幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351087
公開番号（公開出願番号）：特開2007-152230
出願日： 2005年12月05日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】 水素ガスの分離性能および透過速度が高く且つ使用環境の制限の少ない水素分離膜を提供する。【解決手段】 水素分離膜10は、多孔質の支持体12の外周面が緻密質の膜14で覆われているが、シリカ系材料は薄い膜厚になると膜厚方向に水素を選択的に透過させ、他のガスを透過させない。しかも、シリカ系材料の水素透過性能は、膜厚が薄くなるほど透過抵抗が小さくなるため向上する。そのため、1〜200(nm)の薄いシリカ系材料から成る膜14を多孔質の支持体12の外周面に備えた水素分離膜10は水素を選択的に且つ高い速度を以て透過させるので、水素ガスの分離性能および透過速度が高い水素分離膜が得られる。また、支持体12および膜14は、何れもセラミックスで構成されることから、水素分離膜10は高温の大気中や水蒸気雰囲気下でも劣化し難く、使用環境の制限の少ない特性を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水素分子が厚み方向に透過可能な多数の連通細孔を備えた多孔質支持体と、 前記多孔質支持体の一面に設けられることにより前記連通細孔を閉塞する緻密質のシリカ系膜と を、含むことを特徴とする緻密質シリカ系水素分離膜。
IPC (3件)：
B01D 71/02 ,  B01D 69/10 ,  C01B 3/56
FI (3件)：
B01D71/02 500 ,  B01D69/10 ,  C01B3/56 Z
Fターム (16件)：
4D006GA41 ,  4D006LA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006NA39 ,  4D006NA41 ,  4D006NA63 ,  4D006PA04 ,  4D006PB66 ,  4G140FA04 ,  4G140FB06 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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