特許
J-GLOBAL ID：200903093040457554
微細構造物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-052612
公開番号（公開出願番号）：特開2009-208317
出願日： 2008年03月03日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】 ラインエッジラフネスに優れ、より経済的な電子部品等の微細構造物を高い精度で安定して形成することができるナノインプリント用光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。【解決手段】 ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法が、(1)カチオン重合性化合物及び/又はラジカル重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が、支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた5〜100MPaの圧力のプレスによりパターンを転写される工程、及び(2)パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(1)カチオン重合性化合物及び/又はラジカル重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた5〜100MPaの圧力のプレスによりパターンが被膜に転写される工程、及び
(2)パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程
を含む、該光硬化性樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
4F209AA44
, 4F209AC05
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ06
, 4F209AM32
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PG05
, 4F209PG14
, 4F209PH27
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
出願人引用 (5件)
-
米国特許第5,772,905号明細書
-
米国特許第5,900,160号明細書
-
米国特許第5,925,259号明細書
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審査官引用 (6件)
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