特許
J-GLOBAL ID：200903093236791991

投影露光装置及び投影露光方法並びに走査露光方法

発明者：
西 健爾

西 健爾 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-332847
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163100
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 スループットを向上させつつ、高精度なフォーカス、レべリング制御が可能なようにする。【解決手段】 露光領域IFに対してウエハW面を走査方向に移動させて走査露光する場合、露光領域IFの手前側で走査方向と直交する非走査方向に複数のAF検出点AF1〜AF9が配列されている。このAF検出点AF1〜AF9は、露光領域IFの非走査方向の幅よりも広い検出領域を構成していて、ウエハWの外周近傍のショット領域212を先読み制御することにより、検出点AF7、AF8、AF9が先にウエハW面にかかった時点で、当該ショット領域及びこれと隣接するショット領域のフォーカス計測が開始され、その計測データに基づいて先読み制御が行われる。このため、ウエハ面上に設けられた複数のショット領域を最適順序で走査露光する場合でも、良好なスループットと高精度なフォーカス、レベリング制御を行うことが可能になる。
請求項（抜粋）：
マスクのパターン像を投影光学系を介して感応基板上に露光する投影露光装置であって、感応基板を保持して2次元平面内を移動可能な第1基板ステージと;感応基板を保持して前記第1基板ステージと同一平面内を前記第1基板ステージとは独立に移動可能な第2基板ステージと;前記投影光学系とは別に設けられ、前記基板ステージに保持された感応基板上のマークを計測する少なくとも1つのアライメント系と;前記アライメント系を用いたマーク計測中の感応基板面の所定基準面に対する相対位置を検出するための第1検出系と;前記投影光学系を用いた露光中の感応基板面の所定基準面に対する相対位置を検出するための第2検出系と;前記第1基板ステージ及び第2基板ステージの各々に設けられ、ステージ上に保持された感応基板の面位置を調整するための基板駆動系と;前記第1基板ステージ及び第2基板ステージの内の一方のステージで前記第1検出系による検出を行いながら前記アライメント系を用いたマーク計測動作が行われる間に、他方のステージで前記投影光学系を用いた露光動作が行われるように前記2つのステージを制御した後、前記一方のステージで前記投影光学系を用いた露光動作が行われるように前記一方のステージを制御するとともに、前記一方のステージのマーク計測動作中に得られた前記第1検出系の検出結果と前記一方のステージの露光動作中に得られる前記第2検出系の検出結果とに基づいて前記一方のステージの基板駆動系を制御する制御手段と;を有する投影露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 525 X
引用特許：
審査官引用 (14件)
  • ステップ・アンド・リピート装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-112936   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-345453   出願人：株式会社ニコン
  • 特開昭61-263123
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