特許
J-GLOBAL ID:200903094622693020
二点式インプロセスゲ-ジ機器を備える基板研削装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-245129
公開番号(公開出願番号):特開2007-054925
出願日: 2005年08月26日
公開日(公表日): 2007年03月08日
要約:
【課題】 基板の厚みが25〜50μmと極薄となっても、基板の研削工程中に基板の厚み測定誤差を小さくできる2点式インプロセスゲ-ジ機器の提供。【解決手段】 接触子17bを支持するア-ム17eを冷却する冷却液供給機構24、2点式インプロセスゲ-ジ機器17を研削装置の基台より立設して支持する中空支柱19を冷却する支柱冷却手段20、および研削液飛散がア-ム17e,17fや接触子17a,17bに付着するのを防止する防水カバ-28を設けた2点式インプロセスゲ-ジ機器17。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
チャックテ-ブル上に載置された基板を研削砥石で研削し、薄肉平坦化する研削装置において、一対のア-ムの先端下部にそれぞれ接触子を支持させ、それらア-ムを上下方向に高さ調整自在に備えさせた二点式インプロセスゲ-ジ機器を用い、その一方の接触子をチャックテ-ブル上面に、他方の接触子を基板上面に置いて接触させ、各接触子の垂直方向の位置を計測し、その位置高さの差を基板の厚みとする二点式インプロセスゲ-ジ機器を前記チャックテ-ブル近傍の基台より支柱を介して立設し、前記ア-ムを冷却する冷却液供給機構を二点式インプロセスゲ-ジ機器に設けたことを特徴とする基板研削装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (9件):
3C034AA07
, 3C034BB91
, 3C034CA02
, 3C034CB01
, 3C034DD01
, 3C043BA03
, 3C043BA09
, 3C043CC04
, 3C043DD06
引用特許:
出願人引用 (11件)
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半導体ウエハの計測用二点式インプロセスゲージ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-075813
出願人:芝山機械株式会社
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研削装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-175788
出願人:株式会社ディスコ
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ウエハの厚み測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-177564
出願人:株式会社岡本工作機械製作所
-
基板の研削装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-274236
出願人:株式会社岡本工作機械製作所
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半導体ウエハの研削装置及び研削方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-008836
出願人:シャープ株式会社
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自動定寸装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-362437
出願人:株式会社東京精密
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特開昭61-100325
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自動定寸装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-367056
出願人:株式会社東京精密
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電極構造、載置台構造、プラズマ処理装置及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-168297
出願人:東京エレクトロン株式会社
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凍結乾燥機
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-355600
出願人:株式会社アイラー千野
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磁気共鳴イメージング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-058861
出願人:ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー
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審査官引用 (5件)
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ウエハの厚み測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-177564
出願人:株式会社岡本工作機械製作所
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自動定寸装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-362437
出願人:株式会社東京精密
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特開昭61-100325
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研削装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-175788
出願人:株式会社ディスコ
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自動定寸装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-367056
出願人:株式会社東京精密
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