特許
J-GLOBAL ID：200903095877806002

マイクロレンズ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びにマイクロレンズ基板及びこれを備えた電気光学装置並びにこれを備えた投射型表示装置

発明者：
斉藤 広美

斉藤 広美 について

, 
四谷 真一

四谷 真一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050676
公開番号（公開出願番号）：特開2000-249806
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 マイクロレンズの光学特性及び構造を改良することによって、マイクロレンズを用いた電気光学装置により形成される画像の画質向上を図る。【解決手段】 マイクロレンズアレイを構成するために、透明基板10の表面上にマスク層11としてアモルファスシリコン層を形成しているため、透明基板10との密着性が従来のマスク層に比べて向上し、エッチング工程においてもマスク層11の剥離が発生しにくく、凹曲面部10aの形状も高精度に、且つ、ばらつき少なく形成することができる。また、低温で成膜できるので、どのような透明基板材料でも製造が可能である。
請求項（抜粋）：
透明基板の表面上にアモルファスシリコンからなるマスク層を形成する工程と、該マスク層に開口部を形成する工程と、エッチング処理により前記開口部を通して前記透明基板の表面に前記開口部を中心とする凹曲面部を形成する工程と、前記マスク層を除去する工程と、前記透明基板とは異なる屈折率を備えた透明材料を前記凹曲面部に充填し硬化する工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
IPC (5件)：
G02B 3/00 ,  B29D 11/00 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 530
FI (6件)：
G02B 3/00 A ,  G02B 3/00 Z ,  B29D 11/00 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 530
Fターム (29件)：
2H088EA14 ,  2H088HA01 ,  2H088HA08 ,  2H088HA25 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090LA04 ,  2H090LA12 ,  2H091FA29Z ,  2H091FC01 ,  2H091FC02 ,  2H091FC22 ,  2H091FC26 ,  2H091FC27 ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H091MA07 ,  4F213AA20 ,  4F213AA39 ,  4F213AH74 ,  4F213WA56 ,  4F213WA67 ,  4F213WA72 ,  4F213WA74 ,  4F213WA87 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WB13
引用特許：
審査官引用 (8件)
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