半導体基板処理装置における処理状況の表示方法及び半導体基板処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-092925
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286246
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】作業者が容易に装置内部における状況を素早くしかも確実に知ることができ、故障の発生に際しても、何処で故障が発生しているかを具体的な装置の位置として知ることができる表示を行う。【解決手段】半導体基板処理装置の処理状況を監視制御する端末の表示画面上に、複数の部屋から構成される半導体基板処理装置の構成図を表示すると共に、前記複数の部屋のそれぞれが、処理のための準備が完了しているか否かを、準備が完了している部屋の明るさを準備が完了していない部屋の明るさより明るく、前記表示画面上に表示されている構成図内に表示する。

請求項（抜粋）：

半導体基板上に半導体装置を形成する半導体基板の処理を行う半導体基板処理装置における処理状況の表示方法において、半導体基板処理装置の処理状況を監視制御する端末の表示画面上に、複数の部屋から構成される半導体基板処理装置の構成図を表示すると共に、前記複数の部屋のそれぞれが、処理のための準備が完了しているか否かを、準備が完了している部屋の明るさを準備が完了していない部屋の明るさより明るく、前記表示画面上に表示されている構成図内に表示することを特徴とする半導体基板処理装置における処理状況の表示方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/302 E , H01L 21/205

Fターム (10件)：

5F004AA00 , 5F004BB18 , 5F004BC08 , 5F004CB20 , 5F045BB20 , 5F045DP01 , 5F045DP02 , 5F045DQ14 , 5F045DQ17 , 5F045GB15

引用特許：

審査官引用 (9件)

真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-326221 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-170422 出願人：国際電気株式会社
特開昭63-278319

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