特許
J-GLOBAL ID：200903096657402721

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品

発明者：
峯岸 知典

峯岸 知典 について


出願人/特許権者：
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社

日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-278672
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084435
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：
【要約】【課題】 感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても充分に対応でき,しかも感度や解像度も優れる耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物、前記組成物の使用により、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法並びに形状と特性のパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】 (A)一般式(1)【化1】(式中、R1は四価の有機基、R2は二価の有機基、二つのR3は独立に水素または一価の有機基である)で表される構造単位を複数有し、前記複数の構造単位中のR3の一部は水素であり、残部は一価の有機基であるポリアミド酸誘導体、及び、(B)放射線照射により塩基性物質を発生する化合物を含有してなるネガ型感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
(A)一般式(1)【化1】(式中、R1は四価の有機基、R2は二価の有機基、二つのR3は独立に水素または一価の有機基である)で表される構造単位を複数有し、前記複数の構造単位中のR3の一部は水素であり、残部は一価の有機基であるポリアミド酸誘導体、及び、(B)放射線照射により塩基性物質を発生する化合物を含有してなるネガ型感光性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BD52 ,  2H025BE00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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