特許
J-GLOBAL ID：200903097186187236
ジアゾジスルホン化合物および感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-165702
公開番号（公開出願番号）：特開2000-001469
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 化学増幅型レジストの感放射線性酸発生剤として、特にKRFエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に対して高感度(低露光エネルギー量)で酸を発生でき、かつ優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる、新規なジアゾジスルホン化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 ジアゾジスルホン化合物は下記式(1)で表される。【化1】〔式(1)において、R1 は1価の有機基を示し、R2 〜R5 は水素原子、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基等の1価の基を示すか、あるいはR3 とR5 とが結合してカルボン酸無水物基を形成しており、nは0〜2の整数である。〕感放射線性樹脂組成物は、前記ジアゾジスルホン化合物と4-ヒドロキシスチレン/4-(1’-エトキシエトキシ)スチレン共重合体等で代表される樹脂を含有する。
請求項（抜粋）：
下記式(1)で表されるジアゾジスルホン化合物。【化1】〔式(1)において、R1 は炭素数1〜12の1価の有機基を示し、R2 〜R5は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、炭素数1〜6の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜6の分岐状のアルキル基、炭素数5〜8の環状のアルキル基、炭素数1〜6の直鎖状のアルコキシル基、炭素数3〜6の分岐状のアルコキシル基、炭素数5〜8の環状のアルコキシル基、炭素数2〜6のアシル基、炭素数7〜12のアラルキル基、または下記式(2)【化2】(式中、R6 は、炭素数1〜4の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜6の分岐状のアルキル基、炭素数3〜8のアセタール基もしくはt-ブトキシカルボニルオキシメチル基を示す。)で表される基を示すか、あるいはR3 とR5 とが結合してカルボン酸無水物基を形成しており、nは0、1または2の整数である。〕
IPC (6件)：
C07C317/44
, C07C317/28
, C07C327/60
, C07D307/77
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
C07C317/44
, C07C317/28
, C07C327/60
, C07D307/77
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BA01
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 4C037XA04
, 4H006AA01
, 4H006AB76
, 4H006TA02
, 4H006TB31
, 4H006TB51
, 4H006TC11
