特許
J-GLOBAL ID：200903097341671956

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
宮城 聡

宮城 聡 について

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金岡 雅

金岡 雅 について

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茂森 和士

茂森 和士 について

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安田 周一

安田 周一 について

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真田 雅和

真田 雅和 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237700
公開番号（公開出願番号）：特開2009-071026
出願日： 2007年09月13日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】露光装置において基板に付着した液体による動作不良および処理不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板Wの洗浄後、基板Wが回転する状態で、液供給ノズル650がリンス液を吐出しつつ基板Wの中心部上方から外方に向かって移動する。この場合、リンス液が存在しない乾燥領域R1が基板W上で拡大する。液供給ノズル650が基板Wの周縁部上方まで移動すると、基板Wの回転速度が下降する。液供給ノズル650の移動速度はそのままで維持される。その後、リンス液の吐出が停止されるとともに液供給ノズル650が基板Wの外方に移動する。それにより、乾燥領域R1が基板W上の全体に広がり、基板Wが乾燥される。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板に処理を行うための処理部と、 前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、 前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、 基板の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットを含み、 前記乾燥処理ユニットは、 基板を略水平に保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、 前記基板保持手段により保持された基板上にリンス液を供給するリンス液供給手段と、 回転する基板の中心部から周縁部に連続的にリンス液が供給されるように前記リンス液供給手段を移動させるリンス液供給移動手段とを含み、 前記回転駆動手段は、基板の中心部にリンス液が供給される状態で基板が第1の回転速度で回転し、基板の周縁部にリンス液が供給される状態で基板が前記第1の回転速度より低い第2の回転速度で回転するように基板の回転速度を段階的または連続的に変化させることを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133
FI (9件)：
H01L21/30 514E ,  H01L21/30 568 ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651L ,  B08B3/04 A ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/30 503Z
Fターム (42件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB02 ,  2H090JC09 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB44 ,  3B201BB92 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD43 ,  5F046AA17 ,  5F157AA66 ,  5F157AA73 ,  5F157AA88 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC02 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157BB44 ,  5F157CB03 ,  5F157CB04 ,  5F157CB13 ,  5F157CB15 ,  5F157CE07 ,  5F157CE25 ,  5F157DA21 ,  5F157DB38 ,  5F157DB51 ,  5F157DC84
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (8件)
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