特許
J-GLOBAL ID：200903097451302549
イオン型および非イオン型光酸発生剤を混合してなるフォトレジスト組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297253
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147753
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、サブミクロン寸法およびセミサブミクロン寸法をも有する高解像度のパターン形成フォトレジスト画像(例えば、本質的に垂直の側壁を有するパターン形成線)を形成する方法を含み、本発明のフォトレジストのレリーフ画像を形成する方法を提供する。本発明は、さらに、本発明のフォトレジストおよびレリーフ画像を上に被覆させたマイクロエレクトロニクスウェハー基板またはフラットパネルディスプレイ基板などの基板を含む工業製品を提供する。【解決手段】 本発明は、イオン性および非イオン性光酸発生剤化合物の混合物を含有してなる新しいフォトレジスト組成物に関する。本発明の組成物は、サブミクロン寸法で高解像度の形状(feature)を実現することが可能な深UVフォトレジスト(193nmおよび248nmにおけるイメージングを含む)として極めて有用である。
請求項（抜粋）：
露光された被膜を現像するに十分な量の少なくとも1種のイオン性化合物及び少なくとも1種の非イオン性化合物からなる光酸発生剤の混合物、並びに樹脂バインダーからなるフォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/11 503
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/11 503
