特許
J-GLOBAL ID：200903025780521706

化学増幅ネガ型レジスト組成物

発明者：
上谷 保則

上谷 保則 について

, 
山田 愛理

山田 愛理 について

, 
井上 博貴

井上 博貴 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154947
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347392
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 解像度が向上した化学増幅ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、下式(I)(式中、Rは、無置換の若しくは置換されたアルキル、脂環式炭化水素残基、アリール又はカンファー基を表す)で示されるN-置換スクシンイミド化合物、及びこのN-置換スクシンイミド化合物とは別の酸発生剤を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物が提供される。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、下式(I)(式中、Rは、無置換の若しくは置換されたアルキル、脂環式炭化水素残基、アリール又はカンファー基を表す)で示されるN-置換スクシンイミド化合物、及び該N-置換スクシンイミド化合物とは別の酸発生剤を含有することを特徴とする、化学増幅ネガ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (12件)：
2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CB55 ,  2H025CC01 ,  2H025CC17
引用特許：
審査官引用 (13件)
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