特許
J-GLOBAL ID:200903097917487056
ウェーハレベルパッケージ及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
瀬谷 徹 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-197209
公開番号(公開出願番号):特開2001-035969
出願日: 2000年06月29日
公開日(公表日): 2001年02月09日
要約:
【要約】【課題】 ボールランドと半田ボールとの間の接触面積を広げることで、ボールランドと半田ボールとの間の接合強度を大幅に強化させたウェーハレベルパッケージ及びその製造方法を提供する。【解決手段】 多数のボンディングパッドが表面に形成された半導体チップと、半導体チップの表面に塗布され、ボンディングパッドを露出させるビアホールと、ビアホールから所定距離をおいて配置された凹凸溝を持つ下部絶縁層と、下部絶縁層の表面に蒸着され、ボンディングパッドと凹凸溝とを電気的に連結する金属パターンと、下部絶縁層上に塗布され、凹凸溝に蒸着された金属パターンを露出させるボールランドが形成された上部絶縁層と、ボールランドにマウントされ、凹凸溝に蒸着された金属パターンと電気的に連結する半田ボールとを含む。
請求項(抜粋):
多数のボンディングパッドが表面に形成された半導体チップと、前記半導体チップの表面に塗布され、前記ボンディングパッドを露出させるビアホールと、前記ビアホールから所定距離をおいて配置された凹凸溝を持つ下部絶縁層と、前記下部絶縁層の表面に蒸着され、前記ボンディングパッドと凹凸溝とを電気的に連結する金属パターンと、前記下部絶縁層上に塗布され、前記凹凸溝に蒸着された金属パターンを露出させるボールランドが形成された上部絶縁層と、前記ボールランドにマウントされ、前記凹凸溝に蒸着された金属パターンと電気的に連結する半田ボールとを含むことを特徴とする、ウェーハレベルパッケージ。
IPC (2件):
H01L 23/12 501
, H01L 21/60
FI (5件):
H01L 23/12 501 P
, H01L 21/92 602 L
, H01L 21/92 603 D
, H01L 21/92 604 H
, H01L 21/92 604 Q
引用特許:
審査官引用 (7件)
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半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-284067
出願人:松下電子工業株式会社
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-294579
出願人:セイコー電子工業株式会社
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半導体集積回路装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-007669
出願人:東芝マイクロエレクトロニクス株式会社, 株式会社東芝
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半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-012283
出願人:ソニー株式会社
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バンプ電極の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-205406
出願人:サンケン電気株式会社
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エッチング処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-154683
出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-235626
出願人:株式会社日立製作所
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