特許
J-GLOBAL ID：200903098039419250
圧電振動片及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
布施 行夫
, 大渕 美千栄
, 永田 美佐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-086873
公開番号（公開出願番号）：特開2009-239860
出願日： 2008年03月28日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：
【課題】本発明は、振動周波数が温度変化の影響を受けにくい特性を有する圧電振動片及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】腕部18と励振部23とからなる部位が、温度が高くなるほど固有振動周波数が低くなる特性を有するベース1を用意する。その後に、腕部18の第1の区間19に、温度が高くなるほど固有振動周波数が高くなる特性を有するシリコン酸化膜30を、膜厚を調整して支持させることで、腕部18と励振部23とからなる部位の温度に対する固有振動周波数の特性を調整する。その後に、腕部18の第1の区間19よりも基部16から離れた第2の区間21に、錘金属膜28を、膜厚を調整して支持させることで、腕部18の駆動時の振動周波数を調整する。振動周波数の調整は、シリコン酸化膜30の膜厚に影響を与えないように行う。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
(a)基部及び前記基部から延びる腕部と、前記腕部の長さ方向の第1の区間に支持された励振部と、を含むベースであって、前記腕部と前記励振部とからなる部位が、温度が高くなるほど固有振動周波数が低くなる特性を有するベースを用意する工程と、
(b)前記(a)工程後に、前記腕部の前記第1の区間に、シリコン酸化膜を、膜厚を調整して支持させることで、前記腕部と前記励振部とからなる前記部位の温度に対する固有振動周波数の特性を調整する工程と、
(c)前記(b)工程後に、前記腕部の前記第1の区間よりも前記基部から離れた第2の区間に、錘金属膜を、支持させることで、前記腕部の駆動時の振動周波数を調整する工程と、
を含み、
前記(c)工程は、前記錘金属膜の膜厚を選択的に調整する工程を含む圧電振動片の製造方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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