RI化合物合成装置及びRI化合物合成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 黒木義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-211217
公開番号（公開出願番号）：特開2008-037767
出願日： 2006年08月02日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：

【課題】放射性同位元素標識化合物の収率を向上することができるRI化合物合成装置及びRI化合物合成方法を提供する。【解決手段】RI化合物合成装置1は、輸送液で輸送される流路L11,12と、流路L11,12上の第1のポイントP1に[11C]ヨウ化メチルを注入する第1注入部と、第1ポイントP1で注入された[11C]ヨウ化メチルが、合流点P2に到達したときに、スピペロンを注入する流路L22と、を備えている。そして、シリンジポンプ13,23及び制御装置3により輸送液の流動が制御され、混合された[11C]ヨウ化メチルとスピペロンとは、合流点P2よりも下流の位置において一定時間停止する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るRI化合物合成装置において、前記放射性元素標識化合物の原料を輸送する輸送流体が流動する輸送流路と、前記輸送流路上の第1のポイントにおいて前記放射性元素標識化合物の第1の原料を前記輸送流路に注入する第1の注入部と、前記第1の原料が、前記輸送流路上の第2のポイントに到達したときに、当該第2のポイントにおいて前記放射性元素標識化合物の第2の原料を前記輸送流路に注入する第2原料注入手段と、前記輸送流体の流動を調整して、前記第2のポイントよりも下流の位置における前記第1及び第2の原料の移動を制御する送液制御部と、を備えたことを特徴とするRI化合物合成装置。

IPC (2件)：

C07D 471/10 , C07B 59/00

FI (2件)：

C07D471/10 103 , C07B59/00

Fターム (13件)：

4C065AA16 , 4C065BB06 , 4C065CC01 , 4C065DD03 , 4C065EE02 , 4C065HH01 , 4C065JJ01 , 4C065KK09 , 4C065LL04 , 4C065PP03 , 4C065QQ05 , 4H006AA04 , 4H006AB90

引用特許：

出願人引用 (1件)

微細加工デバイスの使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-576367 出願人：ハマースミス・イメイネット・リミテッド

審査官引用 (8件)

微細加工デバイスの使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-576367 出願人：ハマースミス・イメイネット・リミテッド
RI化合物合成装置及びRI化合物合成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-179760 出願人：住友重機械工業株式会社
RI化合物合成装置及びRI化合物合成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-131705 出願人：住友重機械工業株式会社

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