特許
J-GLOBAL ID：200903061512047704
ポジ型シリコーンレジスト材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187885
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029987
出願日： 1994年07月19日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 高感度、高解像性、プロセス適用性に優れた化学増幅型シリコーン系ポジレジスト材料を提供する。【構成】 一般式(化1):【化1】(x+m=1、x≠0、n:1〜3)で表されるシリコーンポリマー(A)、オニウム塩(B)、及び窒素含有化合物(C)を含有するポジ型シリコーンレジスト材料。更にラダー型ポリシロキサン(D)を含有していてもよい。(C)の好例には芳香族アミンがある。
請求項（抜粋）：
下記一般式(化1):【化1】(式中x、mはx+m=1となる数であり、xが0になることはない。またnは1〜3の正の整数である)で表されるシリコーンポリマー(A)、オニウム塩(B)の2成分を含む、アルカリ水溶液で現像可能な高エネルギー線感応ポジ型レジスト材料において、窒素含有化合物(C)が添加されていることを特徴とするポジ型シリコーンレジスト材料。
IPC (6件)：
G03F 7/075 511
, G03F 7/075 521
, G03F 7/004 501
, G03F 7/029
, G03F 7/26 511
, H01L 21/027
