特許
J-GLOBAL ID：200903098834140590
水素含有ガス製造方法および水素含有ガス製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
日比 紀彦
, 岸本 瑛之助
, 渡邊 彰
, 清末 康子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-175328
公開番号（公開出願番号）：特開2008-001865
出願日： 2006年06月26日
公開日（公表日）： 2008年01月10日
要約：
【課題】タール分解のみならずタールから水素を回収することができ、結果として、水素濃度を向上させることができる水素ガス製造方法および水素ガス製造装置を提供する。【解決手段】流動層ガス化炉3において、水蒸気と酸素の共存下に該炭化水素を含む材料から水素を含むガスを生じさせるガス化工程と、触媒全重量当たり、5重量%超かつ50重量%未満のNiおよび5重量%超かつ50重量%未満のCaOを含む触媒層を充填する触媒充填層10中を、該ガス化工程により生じたガスが通過するようにさせて、該ガス中に含まれるタールを分解し、かつ、該タールから水素を生じさせる工程とを包含する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
炭化水素を含む材料から水素含有ガスを製造する方法であって、
水蒸気と酸素の共存下に該炭化水素を含む材料から水素を含むガスを生じさせるガス化工程と、
触媒全重量当たり、5重量%超かつ50重量%未満のNiおよび5重量%超かつ50重量%未満のCaOを含む触媒層中を、該ガス化工程により生じたガスが通過するようにさせて、該ガス中に含まれるタールを分解し、かつ、該タールから水素を生じさせる工程と
を包含することを特徴とする方法。
IPC (6件)：
C10J 3/00
, C10J 3/02
, B09B 3/00
, C01B 3/02
, C01B 3/38
, B01J 23/78
C10J3/00 A
, C10J3/02 A
, B09B3/00 302A
, B09B3/00 302C
, B09B3/00 302Z
, C01B3/02 Z
, C01B3/38
, B01J23/78 M
4D004AA02
, 4D004AA07
, 4D004AA12
, 4D004AA46
, 4D004AC04
, 4D004BA03
, 4D004CA27
, 4D004CB04
, 4D004CB27
, 4D004CB31
, 4D004CB42
, 4D004CC01
, 4D004CC02
, 4D004CC03
, 4D004CC09
, 4D004DA03
, 4D004DA06
, 4D004DA20
, 4G140AB03
, 4G140BA02
, 4G140EA01
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB01
, 4G140EC02
, 4G140EC05
, 4G169AA03
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BC09A
, 4G169BC09B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169CC17
, 4G169DA05
, 4G169DA06
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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