大面積プラズマ増強化学気相堆積のためのガス拡散シャワーヘッド設計

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：長谷川芳樹 , 山田行一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-114911
公開番号（公開出願番号）：特開2005-317958
出願日： 2005年04月12日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】処理チャンバ内にガスを分配させるためのガス分配プレートの改善された実施形態を提供する。【解決手段】一実施形態においては、ガス分配プレートは、上流側と下流側を有する拡散プレートと、上流側と下流側の間を通る複数のガス通路とを含んでいる。ガス通路の少なくとも1つは、上流側から伸びたその長さの一部の直円筒形と拡散プレートの残りの長さの同軸円錐形を持ち、円錐部分の上流端の直径は直円筒部分とほぼ同一であり、円錐部分の下流端の直径は大きくなっている。該ガス分配プレートは、製造が比較的容易であり、チャンバ洗浄速度が良好であり、薄膜堆積均一性が良好であり、薄膜堆積速度が良好である。該ガス分配プレートは、また、拡散表面上のチャンバ洗浄残留物の減少と堆積している薄膜内の洗浄残留物の混入の減少が利点である。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

上流側と下流側を有する拡散プレートと、該上流側と該下流側の間を通る複数のガス通路と、を備えるプラズマ処理チャンバのためのガス分配プレートアセンブリであって、該ガス通路の少なくとも1つが、該上流側から伸びたその長さの一部の円筒形と該拡散プレートの残りの長さの同軸円錐形を持ち、その円錐部分の上流端の直径が円筒部分とほぼ同一であり、円錐部分の下流端の直径が大きくなっている、前記ガス分配プレート。

IPC (7件)：

H01L21/31 , C23C16/44 , C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/336 , H01L29/786

FI (7件)：

H01L21/31 C , C23C16/44 J , C23C16/455 , H01L21/205 , H01L29/78 617V , H01L29/78 618A , H01L21/302 101H

Fターム (65件)：

4K030BA30 , 4K030BA35 , 4K030BA40 , 4K030BA44 , 4K030DA06 , 4K030EA05 , 4K030FA03 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 5F004AA15 , 5F004BA03 , 5F004BA06 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004CA02 , 5F004DA02 , 5F004DA17 , 5F004DA18 , 5F004DB01 , 5F004DB03 , 5F004DB07 , 5F004DB30 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AB34 , 5F045BB01 , 5F045BB15 , 5F045EB06 , 5F045EF05 , 5F045EF14 , 5F110AA16 , 5F110BB01 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD13 , 5F110DD14 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF04 , 5F110FF30 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG15 , 5F110GG25 , 5F110GG35 , 5F110GG45 , 5F110HK03 , 5F110HK04 , 5F110HK09 , 5F110HK14 , 5F110HK16 , 5F110HK21 , 5F110HK35 , 5F110HL07 , 5F110HL22 , 5F110NN04 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN35

引用特許：

出願人引用 (12件)

反応ガス噴射ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-291602 出願人：株式会社荏原製作所
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-115778 出願人：東京エレクトロン株式会社
処理装置のガス導入方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-143781 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (1件)

反応ガス噴射ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-291602 出願人：株式会社荏原製作所

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