特許
J-GLOBAL ID：200903099250176920

セルフクリーニングを実行するプラズマCVD装置及び方法

発明者：
福田 秀明

福田 秀明 について


出願人/特許権者：
日本エー・エス・エム株式会社

日本エー・エス・エム株式会社 について


代理人 (1件)： 竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-361669
公開番号（公開出願番号）：特開2003-163208
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】チャンバクリーニングの速度を増加させ、クリーニング頻度を最適化することにより不純物汚染が少なく生産性が高いプラズマCVD装置及び方法を与える。【解決手段】セルフクリーニングを実行するプラズマCVD装置は、反応チャンバと、反応チャンバ内にあって、被処理体を載置しかつ加熱するためのサセプタであって、プラズマ生成のための一方の電極を兼ねるサセプタと、反応チャンバ内にあって、前記サセプタと対向し、それと平行に設置され被処理体に反応ガスを噴射するためのシャワーヘッドであって、プラズマ生成のためのもう一方の電極を兼ねるシャワーヘッドと、シャワーヘッドを所定の温度に温度制御するための温度制御機構と、反応チャンバの外部にあって遠隔的にクリーニングガスを活性化するための遠隔プラズマ放電装置と、サセプタ若しくはシャワーヘッドのいずれかに電気的に接続された高周波電力供給手段と、から成る。
請求項（抜粋）：
セルフクリーニングを実行するプラズマCVD装置であって、反応チャンバと、前記反応チャンバ内にあって、被処理体を載置しかつ加熱するためのサセプタであって、プラズマ生成のための一方の電極を兼ねるサセプタと、前記反応チャンバ内にあって、前記サセプタと対向し、それと平行に設置され前記被処理体に反応ガスを噴射するためのシャワーヘッドであって、プラズマ生成のためのもう一方の電極を兼ねるシャワーヘッドと、前記シャワーヘッドを所定の温度に温度制御するための温度制御機構と、前記反応チャンバの外部にあって遠隔的にクリーニングガスを活性化するための遠隔プラズマ放電装置と、前記サセプタ若しくは前記シャワーヘッドのいずれかに電気的に接続された高周波電力供給手段と、から成る装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
H01L 21/31 C ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/302 N
Fターム (47件)：
4K030DA06 ,  4K030EA06 ,  4K030FA04 ,  4K030GA12 ,  4K030JA03 ,  4K030JA06 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030KA25 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4M104BB02 ,  4M104BB28 ,  4M104BB30 ,  4M104DD44 ,  5F004AA15 ,  5F004BA03 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB26 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F004CB09 ,  5F004DA00 ,  5F004DA02 ,  5F004DA17 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AD08 ,  5F045AE21 ,  5F045AF02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB06 ,  5F045EE06 ,  5F045EF05 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14 ,  5F045EK06 ,  5F045HA12
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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