UEDONO Akira について
Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について
TSUTSUI Kazuo について
Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
ISHIBASHI Shoji について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について
WATANABE Hiromichi について
Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について
KUBOTA Shoji について
Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について
NAKAGAWA Yasumasa について
Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
MIZUNO Bunji について
Ultimate Junction Technol. Inc., Osaka, JPN について
HATTORI Takeo について
Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
IWAI Hiroshi について
Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
イオン注入 について
空格子点 について
陽電子ビーム について
陽電子消滅 について
Doppler効果 について
近似法 について
RTA【熱処理】 について
ケイ素 について
半導体材料 について
ホウ素 について
PAW法 について
プラズマ浸漬イオン注入 について
半導体の格子欠陥 について
単色 について
エネルギー について
陽電子ビーム について
探針 について
プラズマ浸漬イオン注入 について
Si について
空格子点 について
硼素 について
複合体 について