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J-GLOBAL ID：201002287815208030   整理番号：10A0843403

MEMSガスフローセンサと不純物ガス濃度センサ一体型センサの開発

Development of a MEMS Gas Flow Sensor Unified with an Impurity-Gas Concentration Sensor

著者 (5件)： 阿部康弘 ((株)MKTタイセー) ,  小阪潤一 ((株)タイセー) ,  大江俊昭 (ヘンミ計算尺(株)) ,  石原聖司 (フローテクノサービス) ,  木村光照 (東北学院大学)
資料名： 電気学会論文誌 E  (IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)
巻： 130  号： 8  ページ： 412-416 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： L3098A  ISSN： 1341-8939  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,キャリアガス流量計測と不純物ガス濃度計測とを,同一の半導体チップで実現するという特長を有し,さらに,コンパクト化するためにヒーター兼温度センサとなる熱電対を用いた集積化センサを開発した。フローセンサ実験では,水素キャリアガスの代わりに窒素ガスを使用し,数ミリ秒の計測時間で計測できることが実証できた。窒素ガスは水素ガスに比べて重いので,水素ガスであれば,さらに高速に計測ができる。水素キャリアガス中に不純物を混合しての不純物濃度センサに関する実験でも,不純物濃度に依存性があるセンサ出力が得られ,計測時間が数ミリ秒で,高速かつ高感度に検出できることを確認できた。

シソーラス用語： *MEMS ,  *ガスセンサ ,  センサ ,  流量計 ,  *不純物濃度 ,  *流量測定 ,  *熱電対 ,  半導体チップ ,  *半導体集積回路 ,  フローセンサ ,  *計測

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  分析機器  (CC02020S)

引用文献 (6件)：

• KANEKO, T. Thin film growth of silicon cardide from methyl-trichloro-silane by RF plasma-enhanced CVD. Journal of Crystal Growth. 1997, 174, 1-4, 658-661
• KIMURA, M. Microheater and microbolometer using microbridge of SiO2 film on Silicon. Electronics Letters. 1981, 17, 2, 80-82
• NEDA, T. A polysilicon flow sensor for gas flow meters. Sensors and Actuators A : Physical. 1996, 54, 1-3, 626-631
• NEDA, T. Integrated and microheater embedded gas sensor array based on the polymer composites dispensed in micromachined wells. Sensors and Actuators B. 2005, 105, 549-555
• RHO, S. C. Sensitivity enhancement of a silicon micro-machined thermal flow sensor. Sensors and Actuators A : Physical. 2006, 128, 1, 1-6

タイトルに関連する用語 (5件)： MEMS ,  不純物ガス ,  濃度センサ ,  体型 ,  開発