特許
J-GLOBAL ID：201003002636508313
プラズマ処理装置及び試料載置電極
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-223553
公開番号（公開出願番号）：特開2010-062195
出願日： 2008年09月01日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：
【課題】ヒータを用いた温度制御電極において機械的信頼性を確保しつつ運用レンジの拡大と高速応答性、および周方向の均一性を改善した電極を提供する。【解決手段】プラズマエッチング装置の試料載置電極の電極基材を2層構造とし、冷媒部を持つ第1層は純Ti材またはAl材としとし、第2層はTi合金(Ti-6Al-4V)で構成してヒータで加熱した場合に温度ムラが少なく、電極に載置したウエハの加工寸法精度が低下を少なくする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部が減圧排気される処理室と、前記処理室に設けられ被処理基板が載置される試料載置電極と前記処理室内にプラズマを発生させるための電磁波発生装置と、前記処理室内に処理ガスを供給する供給系と前記処理室内を排気する為の真空排気系とを有するプラズマ処理装置において、前記試料載置電極は冷媒溝を有する基材層とヒータ加熱層ならびに静電吸着層を有し、該基材層は冷媒溝を有する純チタン基材層の上部にチタン合金層を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/683
, H01L 21/306
H01L21/68 R
, H01L21/302 101D
, H01L21/302 101G
5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BA14
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004CA06
, 5F031CA02
, 5F031HA10
, 5F031HA16
, 5F031HA37
, 5F031HA38
, 5F031JA46
, 5F031MA32
, 5F031NA05
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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