特許
J-GLOBAL ID：201003005360622892

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂

発明者：
竹下 優

竹下 優 について

, 
吉井 靖博

吉井 靖博 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-308037
公開番号（公開出願番号）：特開2010-113319
出願日： 2008年12月02日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素樹脂成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなり、含フッ素樹脂成分(F)は、フッ素原子を含む構成単位(f1)と、親水性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位(f2)と、第3級アルキル基含有基又はアルコキシアルキル基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(f3)とを有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素樹脂成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、 前記含フッ素樹脂成分(F)は、フッ素原子を含む構成単位(f1)と、親水性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位(f2)と、下記一般式(f3-1)で表される構成単位(f3)とを有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/22
FI (6件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/22
Fターム (43件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H096GA09 ,  2H096HA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA15P ,  4J100BB17P ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC43P ,  4J100CA05 ,  4J100DA37 ,  4J100DA40 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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