特許
J-GLOBAL ID：200903029391275959
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-336825
公開番号（公開出願番号）：特開2006-251761
出願日： 2005年11月22日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】LERの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有しかつα位にフッ素原子またはフッ素化低級アルキル基が結合したアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)とを有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有しかつα位にフッ素原子またはフッ素化低級アルキル基が結合したアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)とを有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039
, H01L 21/027
, C08F 212/14
, C08F 220/22
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C08F212/14
, C08F220/22
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA02Q
, 4J100BA03P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC49Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100JA38
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
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